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渡邊 和弘; 花田 磨砂也; 井上 多加志; 小島 啓明; 松田 恭博*; 小原 祥裕; 奥村 義和
Proc. of the 13th Symp. on Ion Sources and Ion-Assisted Technology,Vol. 1, 4 Pages, 1990/06
10A、50keVの大電流負イオンビームを発生できるマルチアンペア負イオン源において、ビーム光学の測定を行なった。その結果、負イオンビームの発散の最適値は、加速部の引き出し電圧、加速電圧、負イオンビーム電流値に存在することを確認できた。さらに、正イオンビーム用の軌道計算コードを用いて、負イオンビーム軌道のシミュレーションを行い実験結果と比較した。その結果、上記計算コードが負イオンビームの軌道計算に適用可能であることが明らかとなった。
ion beam小島 啓明; 花田 磨砂也; 井上 多加志; 松田 恭博*; 小原 祥裕; 奥村 義和; 大原 比呂志; 関 昌弘; 渡邊 和弘
Proc. of the 13th Symp. on Ion Sources and Ion-Assisted Technology,Vol. 1, 4 Pages, 1990/06
負イオンビームを用いた粒子入射加熱装置の実現に向け、体積生成型負イオン源の大電流化を目指している。現在までに、マルチアンペア負イオン源にセシウムを添加することで負イオン電流が増大することが確認され、10A、50keV、0.1sのHイオンビームが得られている。この負イオン源は、断面が24cm
48cm、深さ15cmの多極磁場型プラズマ源と、15cm40cmの領域に直径9mmの孔が434個開けられた加速部より構成される。セシウムは、100mg程度導入すると一週間程度効果が持続し、負イオン生成効率が4倍以上になる他、最適動作ガス圧力を下げることができる。負イオンビーム中の不純物量の評価を行なった結果、OH、Oが1%以下と、セシウムを用いない場合と変わらないことが分かった。また、金属不純物も検出されなかった。